Мантуров рассказал о разработке литографа на 130 нанометров

ЕКАТЕРИНБУРГ, 19 февраля – РИА Новости.

Россия планирует освоить литографическое оборудование для производства микросхем с размером элементов 130 нанометров до конца текущего года, сообщил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарном заседании первого окружного отчетно-программного форума «Есть результат!».

Он подчеркнул, что в сфере микроэлектроники стране предстоит выполнить значительный объем работы, включая существенное сокращение отставания от мировых лидеров в этой области.

Литография в микроэлектронике — это процесс создания очень мелких структур на поверхности полупроводников, которые формируют микросхемы. Эта технология необходима, например, для производства микропроцессоров. Первый российский литограф с разрешением 350 нанометров уже разработан совместно с Беларусью.

Источник и фото - ria.ru